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《半导体技术》2020年01期
 
更新日期:2021-02-03   来源:半导体技术   浏览次数:163   在线投稿
 
 

核心提示:目录趋势与展望GaN微电子学的新进展赵正平;1-16+36半导体集成电路电力无线传感片上系统的核心模拟前端电路设计池颖英;张海峰;郑

 
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趋势与展望
GaN微电子学的新进展赵正平;1-16+36半导体集成电路
电力无线传感片上系统的核心模拟前端电路设计池颖英;张海峰;郑哲;刘瑞;乔磊;崔文朋;17-24
一种细粒度可重构的深度神经网络加速芯片刘晏辰;刘洋;25-30+51
基于CoreConnect总线的DMA控制器设计吴思博;于宗光;31-36半导体器件
基于溅射氧化铝的铟镓锌氧双电层薄膜晶体管魏力;王鑫池;牟鹏霖;邵枫;顾晓峰;37-42+83半导体材料
二维材料光电探测器的研究进展张恒康;冀婷;李国辉;韩娜;王英奎;王文艳;郝玉英;崔艳霞;43-51
TiO2/Bi2Se3复合材料的制备及光电化学性能王超帅;仇怀利;李思寒;张栋;沈周阳;李中军;52-57半导体制造技术
化学添加剂提高钴化学机械抛光性能的研究进展高鹏程;檀柏梅;高宝红;牛新环;刘孟瑞;孙晓琴;刘玉岭;58-65
在CMP过程中新型抑制剂对Cu/Ru电偶腐蚀的影响张佳洁;周建伟;王辰伟;王子艳;张雪;王超;66-71+83可靠性
基于栅氧化层损伤EEPROM的失效分析赵扬;陈燕宁;单书珊;赵明敏;72-76
一种功率运算放大器失效机理的研究廉鹏飞;孔泽斌;陈倩;杨洋;李娟;祝伟明;楼建设;王昆黍;77-83半导体检测与设备
非晶层占比对TEM样品成像的影响党鹏;马昊;张启华;杨阳;史丽娜;84-88
西安卫光科技有限公司2
《半导体技术》稿约88
锦州辽晶电子科技有限公司89
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